บริษัท Nanofilm Technologies International Limited เป็นผู้ให้บริการโซลูชันนาโนเทคโนโลยีชั้นนำ โดยเชี่ยวชาญด้าน การเคลือบฟิล์มบางด้วยเทคนิค Physical Vapor Deposition (PVD) กลุ่มเทคโนโลยีการเคลือบของบริษัทประกอบด้วยเทคโนโลยี Filtered Cathodic Vacuum Arc (FCVA) ที่ได้รับการจดสิทธิบัตร PlasmaIMPAX®, Sputtering, และ Ion Beam Deposition.
เทคโนโลยี FCVA ช่วยให้ได้ชั้นเคลือบที่มีความบริสุทธิ์และความหนาแน่นสูงเป็นพิเศษ ส่งผลให้มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่เหนือกว่าและลดการสูญเสียสัญญาณให้น้อยที่สุด นอกจากนี้ ชั้นเคลือบยังมีการยึดเกาะที่ดีเยี่ยมเพื่อความทนทานในระยะยาว อีกทั้งกระบวนการเคลือบที่ใช้ความร้อนต่ำยังรองรับการเคลือบบนวัสดุที่หลากหลาย เช่น กระจก เซรามิก ยาง และพลาสติก
